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【工业二氧化碳】高纯气体的重要标准度

文章出处:龙昌工业气体发表时间:2019-07-19

  【工业二氧化碳】高纯气体的重要标准度

  1、高纯气体的重要标度。

  通常,高纯气体系指气体中含较少杂质气氛(纯度),微量水份(干燥度)污染物粒子的娄量保持在最低限度,

  其粒度也应是最小的(洁净度)。因此,对于高纯气体,纯度、干燥度、洁净是三项重要的标度。

  特别是近10年来,随着更复杂、更密集的大规模和超大规模集成电路的生产,对高纯气体洁净度的要求,

  其重要程度已不亚于对纯度和干燥度有严格要求的用气工艺,无一不对其中的粒子提出限制。

  2、控制粒子污染的重要性

  对于控制粒子污染的重要性,在集成电路生产、实验部门已经有所认识,同时,实践已向人们表明,

  气体的粒子可造成微日子产品的短路或断路,改变半导体材料的电性能,也可以破坏其晶格结构,

  影响印刷板的复制等等。这些破坏性因素中的任何一个,无可导致集成电路失效的严重后果。

  通常,粒子的粒径小到1微米的十分之几,便可造成断路,而更小的凿子,便函可使线路工作降级。

  所以,防止粒子污染,在微电子技术中是十分严格的。迄今,在纯净气体应用技术中,对于大流量高纯气体输送系统,

  美国已有输送含0。1µm以上粒子,每立方英尺气体中不超过10个的能力;

  它还为几个系统输送含有0.02µm以上粒子的气体,其粒子数每立方英尺不超过10个。

  3、洁净度控制的标准或规定

  由于高纯度体的使用地点、性质、关况(如温度、压力等)都不完全一致,所以,

  如何确定高纯气体的“三度”(纯度、干燥度、洁净度),还没有一个严格而明确的概念。

  对于纯度和干燥度的控制,我国CBJ73—84《洁净厂房设计规范》中指出,

  “高纯气体系指纯度大于或等于99.9995%,含水量小于5ppm气体。”

  日本把微电子生产中所采用的气体,按其不同的品位,具体分为下列几个不同的档次。

  超高纯气体

  气体中杂质总含量控制在1ppm以下,水份含量控制在0.2~1ppm。

  高纯气体

  气体中杂质总含量控制在5%ppm以下,水份含量控制在3 ppm以内.